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인텔, IDM 2.0 전략 공개, 나노미터 아닌 와트당 성능으로 이름 붙인다

인텔이 기자간담회를 열고 IDM 2.0 전략을 공개했다. 이중 가장 큰 변화는 나노미터 공정의 명칭 변화다. 인텔은 이제 10나노미터 이하의 공정에는 ‘나노미터’ 명칭을 쓰지 않는다. 대신 와트당 성능 기준으로 제품 넘버링을 변경한다. 그간 인텔은 나노미터 공정에서 뒤처졌다는 평가를 받고 있었는데, 사실상 다른 회사의 나노미터 공정이 인텔의 것보다 한 공정씩 낮음에도 실제 와트당 성능이나 집적도는 비슷하다는 데서 착안한 넘버링이다. 나노미터가 아닌 와트당 성능으로 명칭 구분 지금까지 인텔의 공정은 다른 회사와 마찬가지로...

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인텔에 러브콜 보내는 독일, 유럽 IDM 2.0의 미래는?

인텔이 미국과 유럽을 대상으로 파운드리 사업을 확장할 계획을 하고 있는 가운데, 인텔이 독일 뮌헨 인근에 반도체 생산시설을 설립하기 위한 논의를 하고 있는 것으로 알려졌다. 업계에 따르면, 인텔은 독일 뮌헨에 반도체 생산시설을 설립할 계획을 가지고 있으며, 아일랜드 킬테어 주 레익슬립 인근에 또 다른 7nm 반도체 생산시설을 건설하는 중이다. 레익슬립 생산라인은 오는 2023년 가동을 목표로 하고 있다. 우선 레익슬립 생산시설에 대해 업계 관계자들은 “보통 반도체 생산시설을 건설하고 가동하는 데까지는 2~3년이...

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